2024-2030年中国高纯金属行业市场深度监测及投资方向分析报告

正文目录

第一章2018-2024年中国有色金属行业发展综合分析

1.1 中国有色金属矿产资源储量及勘查状况分析

1.1.1 有色金属矿产资源储量

1.1.2 有色金属矿产生产情况

1.1.3 有色金属资源探勘投入

1.1.4 有色金属资源探矿权设置

1.1.5 有色金属资源勘探成效

1.2 2018-2024年中国有色金属工业运行状况

1.2.1 有色金属工业运营特点

1.2.2 有色金属产品生产状况

1.2.3 有色金属消费情况分析

1.2.4 有色金属价格行情分析

1.2.5 有色金属企业经营状况

1.2.6 有色金属市场贸易状况

1.2.7 有色金属固定资产投资

1.3 中国有色金属矿采选业财务状况

1.4 中国有色金属冶炼及压延加工业财务状况

1.5 中国上市公司在有色金属行业投资动态分析

1.6 中国有色金属行业上市公司投资动态分析

1.7 中国有色金属行业投资壁垒

第二章2018-2024年中国高纯金属行业发展环境分析

2.1 经济环境

2.1.1 宏观经济概况

2.1.2 工业经济运行

2.1.3 对外经济分析

2.1.4 固定资产投资

2.2 政策环境

2.2.1 高纯金属标准体系

2.2.2 金属靶材标准体系

2.2.3 国家标准化发展纲要

2.2.4 原材料工业发展政策

2.2.5 半导体制造材料政策

2.3 技术环境

2.3.1 研发经费投入增长

2.3.2 摩尔定律发展放缓

2.3.3 专利密集型产业增加值

2.3.4 集成电路专利申请状况

2.4 稀土环境

2.4.1 市场贸易状况分析

2.4.2 上市公司投资动态

2.4.3 行业发展前景展望

2.4.4 行业发展投资潜力

第三章2018-2024年高纯金属行业发展概况及检测方法分析

3.1 高纯金属基本介绍

3.1.1 高纯金属定义

3.1.2 高纯金属特征

3.1.3 纯度分析原则

3.1.4 应用领域分析

3.2 高纯金属的制备方法

3.2.1 熔盐电解精炼法

3.2.2 碘化精炼法

3.2.3 电子束熔炼法

3.2.4 电子束悬浮区熔

3.3 高纯金属的表征方法

3.3.1 百分数法

3.3.2 剩余电阻率法

3.3.3 纯度级R（Reinheitgrad）

3.4 高纯金属的检测方法

3.4.1 质谱分析

3.4.2 中子活化分析

3.4.3 X射线光谱分析

3.4.4 化学光谱法

3.4.5 各种分析方法的比较

第四章2018-2024年主要高纯金属发展状况分析

4.1 高纯镓行业

4.1.1 高纯镓行业基本概述

4.1.2 高纯镓主要生产工艺

4.1.3 高纯镓主要生产企业

4.1.4 高纯镓行业产量分析

4.1.5 高纯镓主要应用领域

4.1.6 高纯镓规模化生产技术

4.2 高纯铟行业

4.2.1 高纯铟行业基本概述

4.2.2 高纯铟主要制备方法

4.2.3 电解精炼法因素分析

4.2.4 高纯铟需求规模分析

4.2.5 高纯铟国内外生产企业

4.2.6 高纯铟应用领域分析

4.3 高纯锗行业

4.3.1 金属锗基本概念界定

4.3.2 高纯锗国内技术突破

4.3.3 高纯锗重点研发项目

4.3.4 高纯锗应用领域分析

4.3.5 高纯锗行业发展潜力

4.4 高纯铝行业

4.4.1 高纯铝行业基本概述

4.4.2 高纯铝主要生产工艺

4.4.3 高纯铝国内外生产企业

4.4.4 高纯铝应用领域分析

4.4.5 高纯铝国产替代成果

4.4.6 高纯铝行业发展展望

4.5 高纯钛行业

4.5.1 高纯钛行业基本概述

4.5.2 高纯钛粉的制备方法

4.5.3 高纯钛国内技术突破

4.5.4 高纯钛重点企业介绍

4.5.5 钛靶材行业发展展望

4.6 高纯铜行业

4.6.1 高纯铜行业标准发布

4.6.2 高纯铜行业技术突破

4.6.3 超高纯铜靶材项目建设

4.6.4 高纯铜靶材应用领域

4.6.5 高全铜靶材加工趋向

4.7 高纯钨行业

4.7.1 高纯钨行业基本概述

4.7.2 高纯钨制备除杂方法

4.7.3 高纯钨靶材制备方法

4.7.4 高纯钨靶材应用分析

4.7.5 高纯钨靶材性能要求

4.7.6 高纯钨靶材发展展望

第五章2018-2024年高纯金属行业应用领域分析——半导体材料

5.1 半导体材料相关概述

5.1.1 半导体材料基本介绍

5.1.2 半导体材料主要类别

5.1.3 半导体材料产业地位

5.2 2018-2024年中国半导体材料行业运行状况

5.2.1 应用环节分析

5.2.2 产业支持政策

5.2.3 市场规模分析

5.2.4 市场份额分析

5.2.5 细分市场结构

5.2.6 项目建设动态

5.2.7 国产替代进程

5.3 中国半导体材料市场竞争结构分析

5.3.1 现有企业间竞争

5.3.2 潜在进入者分析

5.3.3 替代产品威胁

5.3.4 供应商议价能力

5.3.5 需求客户议价能力

5.4 中国半导体材料行业上市公司财务状况分析

5.4.1 上市公司规模

5.4.2 上市公司分布

5.4.3 经营状况分析

5.4.4 盈利能力分析

5.4.5 营运能力分析

5.4.6 成长能力分析

5.4.7 现金流量分析

5.5 中国上市公司在半导体材料行业投资动态分析

5.5.1 投资项目综述

5.5.2 投资区域分布

5.5.3 投资模式分析

5.5.4 典型投资案例

5.6 中国半导体材料产业未来发展前景展望

5.6.1 行业发展趋势

5.6.2 行业需求分析

5.6.3 行业前景分析

第六章2018-2024年高纯金属行业应用领域分析——靶材

6.1 中国靶材行业状况综合分析

6.1.1 靶材基本简介

6.1.2 靶材生产工艺

6.1.3 市场发展规模

6.1.4 全球市场格局

6.1.5 国内市场格局

6.1.6 技术发展趋势

6.2 中国高纯溅射靶材行业运行状况分析

6.2.1 高纯溅射靶材概述

6.2.2 溅射技术分析

6.2.3 主要应用领域

6.2.4 重点企业布局

6.2.5 行业核心价值

6.2.6 行业投资壁垒

6.3 中国带背板的溅射靶材组件所属行业进出口数据分析

6.4 中国靶材行业竞争情况分析

6.4.1 靶材企业竞争格局

6.4.2 靶材行业市场份额

6.4.3 靶材行业市场集中度

6.4.4 靶材企业竞争力评价

6.4.5 靶材行业竞争状态总结

第七章2018-2024年高纯金属行业其他应用领域分析

7.1 光伏电池行业

7.1.1 光伏电池基本概况

7.1.2 光伏电池产量分析

7.1.3 光伏电池进出口分析

7.1.4 光伏电池企业布局状况

7.1.5 高纯金属应用分析

7.2 平板显示行业

7.2.1 平板显示基本概况

7.2.2 平板显示产业标准

7.2.3 新型平板显示发展

7.2.4 平板显示技术进展

7.2.5 高纯金属应用分析

7.3 航空工业

7.3.1 产业发展成就

7.3.2 航空装备规模

7.3.3 军用航空企业

7.3.4 军事航空重组

7.3.5 民用航空腾飞

7.3.6 航空材料细分市场

7.4 超导材料产业

7.4.1 行业发展历程

7.4.2 主要应用领域

7.4.3 行业发展现状

7.4.4 行业竞争格局

7.4.5 创新发展成果

7.4.6 高纯金属应用分析

7.4.7 未来发展前景

第八章国际高纯金属行业主要企业经营状况分析

8.1 法国Recylex

8.2 美国铝业公司

8.3 日本RASA工业

8.4 其他企业

8.4.1 瑞典赫格纳斯

8.4.2 美国铟泰公司

8.4.3 美国元素

8.4.4 美国海格纳士

第九章中国高纯金属行业重点企业经营状况分析

9.1 江丰电子

9.1.1 企业发展概况

9.1.2 经营效益分析

9.1.3 业务经营分析

9.1.4 财务状况分析

9.1.5 核心竞争力分析

9.1.6 公司发展战略

9.2 有研新材

9.2.1 企业发展概况

9.2.2 子公司业务发展

9.2.3 经营效益分析

9.2.4 业务经营分析

9.2.5 财务状况分析

9.2.6 核心竞争力分析

9.3 阿石创

9.3.1 企业发展概况

9.3.2 经营效益分析

9.3.3 业务经营分析

9.3.4 财务状况分析

9.3.5 核心竞争力分析

9.3.6 公司发展战略

9.4 新疆众和

9.4.1 企业发展概况

9.4.2 经营效益分析

9.4.3 业务经营分析

9.4.4 财务状况分析

9.4.5 核心竞争力分析

9.4.6 公司发展战略

9.5 隆华科技

9.5.1 经营效益分析

9.5.2 业务经营分析

9.5.3 财务状况分析

9.5.4 核心竞争力分析

9.5.5 公司发展战略

9.5.6 未来前景展望

第十章2018-2024年中国高纯金属行业标杆企业项目投资建设案例深度解析

10.1 中铼集团超高纯金属化学材料项目

10.1.1 项目基本概述

10.1.2 项目建设内容

10.1.3 项目投资概算

10.1.4 项目实施进度安排

10.1.5 项目经济效益

10.2 江丰电子超高纯金属溅射靶材产业化项目

10.2.1 项目基本概述

10.2.2 项目建设内容

10.2.3 项目的必要性

10.2.4 项目的可行性

10.3 惠州基地平板显示用高纯金属靶材及部件建设项目

10.3.1 项目基本概述

10.3.2 项目建设内容

10.3.3 项目投资概算

10.3.4 项目的必要性

10.3.5 项目的可行性

10.3.6 项目经济效益

10.4 武汉基地平板显示用高纯金属靶材及部件建设项目

10.4.1 项目基本概述

10.4.2 项目建设内容

10.4.3 项目投资概算

10.4.4 项目的必要性

10.4.5 项目的可行性

10.4.6 项目经济效益

第十一章中国高纯金属行业投资分析及风险预警

11.1 中国高纯金属行业项目投资动态

11.2 中国高纯金属行业投资壁垒

11.2.1 资源短缺

11.2.2 技术壁垒

11.2.3 人才壁垒

11.2.4 资金壁垒

11.2.5 客户认证壁垒

11.3 中国高纯金属行业投资建议

11.3.1 有色金属工业高质量发展建议

11.3.2 推动先进半导体材料创新发展

11.3.3 重视高纯金属战略物资的储备

第十二章2024-2030年中国高纯金属行业发展前景及趋势预测

12.1 中国高纯金属行业发展前景

12.1.1 政策支持行业发展

12.1.2 国产靶材崛起态势

12.1.3 高端有色材料需求潜力

12.2 2024-2030年中国高纯金属行业预测分析

12.2.1 2024-2030年中国高纯金属行业影响因素分析

12.2.2 2024-2030年中国高纯镓产量预测

12.2.3 2024-2030年中国高纯铟产量预测